找回密码
 注册
搜索
查看: 213|回复: 0

国产芯片设备短中期情况很不乐观,主要问题还不是光刻机,而是其它环节

[复制链接]
发表于 2023-2-4 09:18 AM | 显示全部楼层 |阅读模式


国产芯片设备短中期情况很不乐观,主要问题还不是光刻机,而是其它环节

陈经亚洲视觉
7小时前

产芯片设备的真实情况,基本能判断了,短中期情况很不乐观。主要问题还不是光刻机,而是其它环节

1. 随着美国制裁破坏的动作不断发展,舆论对芯片生产的认识逐渐深入。现在大家基本不信这突破封锁、那攻关完成,都知道关键是芯片制造设备。但还是不知道情况细节,一般就在那猛扯光刻机。

2. 其实构建国产芯片生产线,光刻机真是相对好办的环节,因为还是从ASML买到了很多,市场上也有二手的。甚至SMEE的浸润式光刻机应该也出来了,只是良率还不行,在改进。

3. 真正的问题,是整体上芯片设备市场中国占比太低。国外分析报告直接说了,份额太小忽略不计。中国自己的估计,即使强行照顾本土设备商,产线国产化率也低得可怕,也就25%算不错了。

4.

在前道光刻机环节,SMEE的没有应用案例,先忽略不考虑。其它几个重要环节是薄膜沉积、刻蚀、精密检测、涂胶显影、离子注入,还有一个图中没有提的,光罩(光刻就是把光罩的图案打到硅片上,光罩也很复杂)。中国设备商都在搞,但是差距都很大,不是市场份额的问题,而是就直接强上国产设备,最高的环节也只能做到50%国产化率,低的就没法说了。

5. 因此,美国芯片法案说不让搞先进芯片,其实影响没那么大,本来中国这边也等于是暂时放弃了先进芯片。但这次美国拉了荷兰日本一起搞破坏,是在成熟芯片生产环节都会捣乱了。例如中芯国际等公司的28nm扩产计划就不知道如何了,本来是要上很多条线的。

6.

最大的问题不是“无法生产芯片”,而是用一些国产设备,良率就会下降很多。不是说全用国产设备,那生产不出来。而是25%之类的国产化率,良率就下降很多,再升国产化率,还要降更多,这对厂家的运行效率影响很大。也就是说,不要只看有无,科技部门搞的验收通过是不行的,要实际好用。

7. 因此,就需要很长时间去提升国产设备的指标,这不是科技攻关的概念,而是在实际生产中反复磨合。即使下决心这么办(已经强行降低效率引入了),也需要很长时间。业界通常标准是看良率,三星和英特尔就是良率不行,光说几纳米没有用。

8.

因为芯片生产环节有1000个之多,良率提升很复杂,没有其它行业是这样的,所有环节都要做到最优。国产设备解决有无已经很困难了,但是更困难的是良率提升。目标是芯片产线设备国产化率X%的情况下,良率达到Y%,X和Y越高越好,但情况是X越高Y越低。Y如果低于80%,就是业界认为的失败,台积电是96%这样的指标。即使加上外国设备凑出生产线,良率优化也是需要水磨功夫的。我们肯定会大搞研发,但是技术规律几乎可以判断出,需要很长时间。

9.

可以判断,28nm产线国产化率不会太高25%左右,目前在把引入的国产设备磨合提升。要几年很正常,一个全部都是合格设备的产线调试都要一年以上。然后再不断引入国产设备,50%国产率,最终100%国产率。因为磨合调试实在没有捷径可走,时间会很长,五年都是很乐观的。所以基本判断,还是会依赖外国设备。摆脱依赖要2030年以后了,这是说成熟芯片,先进芯片不知道。也就是说,短中期不要指望国产芯片设备给出好消息。短中期对芯片业都不能放豪言壮语,结论就是这样,技术是没法忽悠的。总体路线还是得周旋,需要外界设备供应。

s3.jpg
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

手机版|小黑屋|www.hutong9.net

GMT-5, 2024-3-29 04:15 AM , Processed in 0.038959 second(s), 17 queries .

Powered by Discuz! X3.5

© 2001-2024 Discuz! Team.

快速回复 返回顶部 返回列表